宁波东方理工大学/宁波市东方理工高等研究院 2026年_7_月采购意向

1

深硅刻蚀机系统 

采购高精度深硅刻蚀机系统，主要用于微机电系统（MEMS）、先进传感器及半导体器件等科研教学场景。设备需具备深硅刻蚀（Bosch工艺）能力，提供高深宽比刻蚀的均匀性与选择比，具备精确的刻蚀深度控制及侧壁形貌调控，表面光洁度与整体工艺均匀性控制能力。配备完整的真空系统、射频系统、气路控制系统及全自动或半自动晶圆传输模块，设备需运行稳定、故障率低。采购标的数量：1套。

340

2026年7月

维保期间对设备故障提供及时响应及上门服务。

2

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统

采购等离子体增强化学气相沉积系统，主要用于半导体薄膜制备、介质膜沉积、光电材料镀膜、MEMS 器件成膜等科研教学与工艺研发场景。设备需支持多种工艺气体，可实现氧化硅、氮化硅等多种薄膜均匀沉积，膜层致密性、厚度均匀性满足科研实验标准；采用全自动或半自动方式传输晶圆，兼容常规科研晶圆及各类基片，需 8英寸向下兼容；设备需具备优良的膜厚均匀性、应力控制能力及台阶覆盖特性；系统应具备腔体和载台温控能力，实时监控能力和界面工艺参数自定义能力，以支持沉积工艺开发。采购标的数量：1套。

210

2026年7月

维保期间对设备故障提供及时响应及上门服务。